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半导体工业水(超纯水)的循环使用
半导体在加工生产中生产需要大宗的水资源,而中国缺乏这一点,尤其是在芯片制造集中的地区。。。。。。。。在半导体领域,,,,,,,水的循环使用是一个具有争议的话题。。。。。。。。
现实半导体工业上:一方面,,,,,,,由于半导体生产用水的水质要求较高,,,,,,,纵然废水已经经由很好的处置惩罚,,,,,,,仍然保存着污染生产用水的可能;另一方面,,,,,,,由于大部分超纯水被用作超净元件的洗濯液,,,,,,,其受污染水平远低于原水(甚至是饮用水),疏散并接纳这种超纯水能带来很大的收益。。。。。。。。需要注重的是,,,,,,,只有对循环用水的水质举行准确可靠的监测,,,,,,,才可以协调上述矛盾。。。。。。。。
半导体工业水(超纯水)循环使用的注重事项
由于包管水质极其主要,循环用水的处置惩罚有如下注重事项:
1、处置惩罚工艺必需可靠,且留有备用系统;
2、超纯水的水质和可用性必需不受水再使用带来的危害的影响。。。。。。。。这意味着任何不可够在超纯水的主处置惩罚工艺中被完全去除的物质必需在进入循环水池之前使用特殊工艺去除。。。。。。。。
别的,,,,,,,由于水资源的欠缺,,,,,,,许多国家最近将水的循环使用率提高到85%,,,,,,,以限制使用自然界的可使用淡水,,,,,,,这便亟须开发新的系统以知足这一要求。。。。。。。。
上图形貌了再循环使用率在85%以上的一个工厂的架构和水量平衡。。。。。。。。这一图表还批注水的循环使用爆发的影响是普遍的并影响整个系统。。。。。。。。
其他的影响尚有:
1、出水残留物的浓度显着升高;
2、超纯水的处置惩罚单位需要处置惩罚与原水性子差别的水(低消融性固体,,,,,,,更多的颗粒物等);
3、别的,,,,,,,生产工艺的任何改变都会对废水的处置惩罚,,,,,,,进而对超纯水的处置惩罚爆发影响,,,,,,,这就要求生产厂家和(废)水处置惩罚厂之间坚持亲近相同。。。。。。。。

半导体工业水(超纯水)循环使用手艺
在确定水质的污染水平不高之后,,,,,,,用于洗濯的超纯水的处置惩罚历程如下:
1、通过超滤膜去除CMP废水中的悬浮性固体和胶体;
2、通过离子交流系统(弱阴离子树脂-强阳离子树脂-强阴离子树脂处置惩罚系统)去除离子;

3、异丙醇(IPA)是主要的有机物,,,,,,,其能够通过生物滤池、多层滤池、活性炭和反渗透系统的多级组合工艺而被去除。。。。。。。。然后,,,,,,,水被循环进入超纯水的补给水循环入口。。。。。。。。
上一个: 半导体超纯水工业废水的处置惩罚
下一个: 制药工业用水超纯水处置惩罚系统工艺